Aplicação foliar de fontes de silício e níveis de sombreamento em Peltophorum dubium (Spreng) Taub
Trovato, V. WSantos, S. CMar, G. DSantos, C. CCorrêa, N. FZomerfeld, P. STorales, E. P
A disponibilidade luminosade dependendo da intensidade e a classificação ecológica sucessional das plantas pode se tornar uma condição desfavorável a produção de mudas de alta qualidade. Hipotetizamos que a aplicação de fontes de silício pode contribuir na indução da tolerância a diferentes níveis de sombreamento para mudas de Peltophorum dubium (Spreng.) Taub. Foram desenvolvimentos dois experimentos independentes: I) aplicação de cinco doses de óxido de silício (SiO2): 0,0; 1,0; 2,0; 4,0 e 6,0 g L-1) e II) aplicação de cinco doses de silicato de potássio (K2SiO3): 0,0; 5,0; 10,0; 15,0 e 20,0 mL L-1 de água, ambos associados a três níveis de sombreamento: 0% (pleno sol), 30% e 50%. No experimento I, observamos que as mudas foram mais responsivas aos níveis de sombreamento e pouco influenciadas pela aplicação foliar de SiO2, com maiores valores de crescimento, biomassa e qualidade quando produzidas sob pleno sol (0% sombreamento). No experimento II, a aplicação foliar de 20,0 mL L-1 de K2SiO3 contribuiu em maiores alturas sob 0% e 30%, enquanto que sob 50% de sombreamento a dose de 5,0 K2SiO3 favoreceu o crescimento da espécie. A aplicação de K2SiO3 favoreceu no incremento de massa seca da parte aérea. As maiores produções de biomassa e qualidade das mudas foram sob 0% e 30% de sombreamento. O ambiente com 50% de sombreamento foi mais desfavorável ao crescimento e qualidade das mudas de P. dubium. Embora as mudas sejam pouco responsivas as fontes de silício, o K2SiO3 contrubuiu mais do que o SiO2. A produção de mudas de alta qualidade é favorecida quando cultivadas sob pleno sol (0% de sombreamento).
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